薄膜沉积设备：
税号 |
类别 |
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|---|---|---|
84862021 |
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置，化学气相沉积装置(CVD) |
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84862022 |
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置，物理气相沉积装置(PVD) |
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84862029 |
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 |
类目：> 第十六类 机器、机械器具、电气设备及其零件；录音机及放声机、电视图像、声音的录制和重放设备及其零件、> 第八十四章 核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件> 专用于或主要用于制造半导体单晶柱或晶圆、半导体器件、集成电路或平板显示器的机器及装置；本章注释九（三）规定的机器及装置, 零件及附件> 制造半导体器件或集成电路用的机器及装置